等離子表面清洗機(jī)清洗原理及其示意圖

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-12-02

等離子體廣泛存在于宇宙中，被視為除固、液、氣態(tài)外的第四態(tài)，是一種帶有正負(fù)離子的氣化物。等離子體中存在如下物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激發(fā)狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等。這些物質(zhì)總體上保持電中性。由于等離子體表面清洗技術(shù)的安全、高效、清潔等優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用。

等離子表面清洗機(jī)清洗原理

等離子表面清洗機(jī)其清洗原理是利用電子、離子、原子和自由基發(fā)射的能量光束與材料表面的污染物分子劇烈碰撞反應(yīng)除去污染物。

等離子表面清洗機(jī)清洗原理示意圖-NAENPLASMA

等離子體中的電子在與表面清洗過程中，劇烈轟擊被清洗物表面的污染分子，使分子被解離，產(chǎn)生具有活性的自由基，有利于污染分子參與其他形式的反應(yīng)。此外，等離子體中電子的運(yùn)動(dòng)速度要比離子快得多，這有利于電子提前到達(dá)材料表面，使其顯負(fù)電性，為接下來的活化反應(yīng)提供良好的環(huán)境。

等離子體中的離子在表面清洗過程中也具有一定的作用，離子會(huì)被帶負(fù)電的表面吸引而產(chǎn)生加速度，隨后與依附在表面的污染物發(fā)生物理碰撞，使污染物被分解成更小的體積，有利于一系列活化反應(yīng)的進(jìn)行。
等離子體中數(shù)量最多的粒子是呈電中性的自由基，其存在時(shí)間長(zhǎng)、能量高。在清洗過程中，表面污染物極易與這些帶有高能量的自由基反應(yīng)，產(chǎn)生新的自由基，也獲得了高能量，變得不穩(wěn)定后進(jìn)行下一步反應(yīng)。隨著反應(yīng)的不斷進(jìn)行，這些自由基的能量越來越低，最后生成易揮發(fā)的小分子，達(dá)到清洗的效果。因此，自由基為整個(gè)清洗過程中的化學(xué)反應(yīng)提供了能量。

真空等離子表面清洗機(jī)與大氣壓等離子表面清洗機(jī)對(duì)比

真空等離子表面清洗機(jī)是通過對(duì)平行金屬板施加直流或者交流電的方式產(chǎn)生等離子體。其清洗原理相同，通過電子、離子撞擊材料表面污染物以達(dá)到清洗效果，但這種清洗方式需要在低壓環(huán)境下進(jìn)行，不適用于工程，且打造低壓環(huán)境需要高端的真空設(shè)備，成本較高。常壓等離子體產(chǎn)生的方式較多，如電暈放電、電弧放電和介質(zhì)阻擋放電等。相對(duì)于真空等離子表面清洗技術(shù),大氣壓等離子表面清洗機(jī)無需使用真空泵,使得清洗過程所需的時(shí)間更短,價(jià)格更為低廉,效率更高。

等離子表面清洗機(jī)作為一種干法清洗設(shè)備，具有污染物去除效率高、清洗表面無損傷以及實(shí)現(xiàn)復(fù)雜裝置中零件的在位清洗等優(yōu)勢(shì)，是未來非常有前景的清洗設(shè)備。