等離子清洗設(shè)備原理
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-05-24
等離子清洗設(shè)備一般包括反應(yīng)腔室，電控系統(tǒng)，射頻電源，真空系統(tǒng)以及操作系統(tǒng)等，射頻等離子清洗設(shè)備的原理是通過真空系將真空腔體袖至10-30PA左右的真空度，然后向真空腔體中通入氬氣或者氧氣等反應(yīng)氣體，當(dāng)真空度約為10-100PA時(shí)開啟巧頻電源，調(diào)節(jié)射頻匹配電源，起輝形成等離子體。在真空狀態(tài)下，因?yàn)闅鈮狠^小，分子間的間距變大，從而使得分子間的作用為變小，利用射頻電源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬氣等工藝氣體震蕩成具有高能量或者高反應(yīng)活性的離子，與有機(jī)污染物或者微顆粒反應(yīng)、碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，揮發(fā)性物質(zhì)由工作氣流從真空系排出去從而達(dá)到清洗的目的。
等離子清洗設(shè)備原理
等離子體主要是通過氣體放電產(chǎn)生，應(yīng)用于材料處理通常為低溫等離子體，能量只有幾十電子伏特。其作用強(qiáng)度高、穿透力小。具有工藝簡單、高效節(jié)能、處理效果好、環(huán)境污染小等優(yōu)點(diǎn)，作用于材料表面會(huì)使其產(chǎn)生一系列的物理、化學(xué)變化。等離子清洗設(shè)備的清洗原理則是通過等離子體中所包含的具有一定反應(yīng)活性或高能量的粒子，與材料表面的有機(jī)污染物或微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)。然后將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去。從而達(dá)到表面清潔的目的。
等離子體清洗的反應(yīng)類型還與活化氣體的種類有關(guān)，一類為惰性氣體被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體(如Ar2、N2等)；另一類為反應(yīng)性氣體被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體(如02、H2等)。氬氣等離子體清洗是典型的等離子體物理清洗工藝。主要通過離子轟擊使表面清潔而不和材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。氧氣等離子體清洗是典型的等離子體化學(xué)清洗工藝．主要通過等離子體所產(chǎn)生的活潑氧自由基與材料表面的碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳和水等易揮發(fā)物．從而達(dá)到去除污染物的效果。
等離子清洗設(shè)備清洗原理
等離子體物理清洗工藝所產(chǎn)生的效果主要是材料表面的粗糙度增加。有助于提高材料表面的附著力；等離子體化學(xué)清洗過程中材料表面活化形成的自由基，能夠進(jìn)一步加成特定的官能團(tuán)。如含氧、含氮官能團(tuán)等，對改善材料的粘著性和潤濕性能起著明顯作用。因此，對等離子體清洗類型的選擇主要取決于材料表面的原有特征、材料表面污染物的性質(zhì)以及后續(xù)處理工藝對材料表面的特性要求等。
以上就是國產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于等離子清洗設(shè)備原理的簡單介紹，等離子體是一種電中性、高能量、全部或部分離子化的氣態(tài)物質(zhì)，包含離子、電子、自由基等活性粒子。等離子清洗設(shè)備原理可做如下解釋：通過抽真空，對真空腔體內(nèi)的氣體施加足夠的能量使之離化為等離子體，一方面生成的等離子體可對樣品表面的污染物進(jìn)行分解并將其帶走，實(shí)現(xiàn)清洗目的。等離子清洗是一種干式清洗技術(shù)，能夠替代傳統(tǒng)的濕法清洗技術(shù)。能夠在不破壞材料表面特性的前提下，有效清除材料表面的微塵及其它污染物。
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