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薄膜低溫等離子體處理原理

文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2023-08-18
低溫等離子體中含有多種組分,但主要還是電子對接觸的材料表面起作用,當等離子體與材料表面作用時,粒子會將攜帶的能量傳遞給材料表面,這些能量的傳遞會引起材料性能的改變。等離子體中電子所攜帶的能量范圍一般為0-20eV,與常見的構(gòu)成有機分子的原子間共價鍵鍵能處于一個能級,這表明無論有機物是否具有不飽和鍵,等離子體處理可以打開有機物的舊共價鍵,并形成新的化學鍵。也正是因為兩者處于同一能級,使得等離子體處理的過程只是直接的能量轉(zhuǎn)移。當它們與材料表面發(fā)生作用時會將自身的能量傳遞給材料表面的原子和分子,發(fā)生復(fù)雜的化學及物理變化,從而改變了材料表面的潤濕性、粘結(jié)性、表面能等。
薄膜低溫等離子體處理

薄膜低溫等離子體處理原理


輝光放電產(chǎn)生的低溫等離子體具有能量低、強度大、穿透力小的特點,讓其作用于薄膜材料表面,進行低溫等離子體處理,通過控制處理時間和功率大小等因素,選擇合適的引入單體,可以實現(xiàn)對薄膜材料進行定性、甚至是定量的改性,從而賦予薄膜表面新的物理化學性質(zhì)。

將薄膜材料置于非聚合性氣體等離子體氛圍中,在薄膜表面進行低溫等離子體處理,利用低溫等離子體中的帶能量的活性粒子轟擊薄膜材料表面,使薄膜材料中的高分子聚合物發(fā)生斷鍵重組,從而達到改性的目的。根據(jù)選擇的氣體的不同,可以分為兩個部分。第一種是如氬氣、氦氣等惰性氣體等離子體,它們在低溫等離子體處理過程中,不會在薄膜表面引入新的元素,而是在薄膜表面形成大量的自由基后,由自由基引發(fā)薄膜材料本身發(fā)生交聯(lián)反應(yīng),從而引起材料表面微觀結(jié)構(gòu)和物化性質(zhì)的變化。另一種是如氮氣、氧氣等反應(yīng)性等離子體,不僅會發(fā)生上述的交聯(lián)反應(yīng),使薄膜發(fā)生結(jié)構(gòu)的變化,還會直接引入含氮和含氧的官能團,從而改變薄膜表面的化學成分。

等離子體處理過程復(fù)雜,不是由一種反應(yīng)主導(dǎo),而是會發(fā)生一系列的競爭反應(yīng),主要包括等離子體刻蝕反應(yīng)、等離子體引發(fā)的交聯(lián)反應(yīng)和活化反應(yīng)。活化反應(yīng)是指,等離子體在薄膜表面作用產(chǎn)生活性位點,在這些活性位點上引入功能性基團的反應(yīng),等離子體處理引入的基團主要是反應(yīng)性氣體產(chǎn)生的。因此,等離子體處理對薄膜材料表面的微觀結(jié)構(gòu)、物化性能和化學組成都會產(chǎn)生重大影響。

低溫等離子體表面處理工藝屬于干式工藝,操作簡單,無二次污染物,節(jié)能環(huán)保,而且能量效率高,處理時間短,可以處理各種材料,具有普遍適應(yīng)性。對于薄膜材料表面處理,等離子體處理具有處理效果均勻的優(yōu)點,而且作用的深度僅在薄膜表面幾納米到幾百納米的范圍,不影響薄膜材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu),可以充分發(fā)揮原薄膜材料的優(yōu)點。因此,低溫等離子體技術(shù)在薄膜材料修飾和改性方面,應(yīng)用的范圍越來越廣泛。

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