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低溫等離子體處理技術(shù)

文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2023-08-18
等離子體可以被看為是等量的正電荷和負電荷載體的集合體,具有零電荷。等離子體被稱為第四態(tài),區(qū)別于其它物質(zhì)三態(tài)(固、液、氣)的另一物質(zhì)聚集態(tài)。它實際上是部分離子化的氣體,可能由電子、任一極性的離子、以基態(tài)或任一激發(fā)形式的高能狀態(tài)的氣態(tài)原子和分子以光量子組成的氣態(tài)復(fù)合體。其中,在數(shù)值上,離子的正電荷總數(shù)與電子的負電荷總數(shù)是一樣的,因而此復(fù)合體在宏觀上呈電中性,因而被稱為等離子體。
低溫等離子體處理技術(shù)
等離子體按系統(tǒng)溫度分類:可以分為高溫等離子體和低溫等離子體。在高溫等離子體體系中,粒子的溫度T>10-8-10-9K,粒子相互之間有足夠的能量在隨機運動中發(fā)生相互碰撞,在一定條件下會發(fā)生核聚變反應(yīng)。低溫等離子體又分為熱等離子體和冷等離子體兩種,其中低溫?zé)岬入x子體是高氣體密度下,在常壓或高壓環(huán)境中,由電弧放電或高頻放電得到,溫度在103-105K。低溫等離子體在反應(yīng)中具有更高的能量利用效率,在實驗室和工業(yè)生產(chǎn)中被廣泛使用。

產(chǎn)生低溫等離子體的方法各式各樣,目前大多采用氣體放電,常見的氣體放電有輝光放電和電暈放電。輝光放電比電暈放電更適合材料的表面改性是因為:電暈等離子體的離子能量密度高,而輝光等離子體的粒子能量密度合適;電暈放電處理效果不均勻,容易損傷材料,而輝光放電處理效果均勻,不會造成材料的機械損傷。并且電暈放電的實驗參數(shù)不易控制,可重復(fù)性低。

低溫等離子體處理技術(shù)(以下簡稱等離子體)對高分子材料表面的處理通常是利用Ar、O2、N2、空氣等氣體經(jīng)低壓輝光放電產(chǎn)生激發(fā)態(tài)的原子、分子、自由基和離子等作用于材料表面。等離子體對材料表面的作用主要有:清除表面弱邊界層、表面刻蝕、表面交聯(lián)、在材料表面引入特定官能團。在改性過程中幾種作用都有可能同時發(fā)生并相互競爭,使材料的力學(xué)性能和表面能發(fā)生改變或者獲得較親水的表面。

利用低溫等離子體處理技術(shù)改性材料的表面,具有如下一些突出的優(yōu)點:它僅對材料表面改性而不對材料本體產(chǎn)生破壞,能最大程度保留材料原有的物理機械性能;等離子體處理可以采用各種氣體,甚至像惰性氣體這樣本身不具有反應(yīng)活性的氣體也可以用來做反應(yīng)氣氛;等離子體處理屬于干加工,只產(chǎn)生很少污染和有毒廢物,不像傳統(tǒng)化學(xué)處理會造成溶劑殘留等問題,是一種節(jié)能節(jié)水和環(huán)境友好的新技術(shù)。等離子體處理技術(shù)能清潔、快速、高效的改變各種材料的表面性能。

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